Efeito da deposição de filme fino à base de sílica no comportamento adesivo de superfícies de cerâmica Y-TZP submetidas à diferentes tratamentos

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Autor(es): dc.contributorSilva, Eduardo Moreira da-
Autor(es): dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/0084980191573168-
Autor(es): dc.contributorMedeiros, Igor Studart-
Autor(es): dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/9484386953883251-
Autor(es): dc.contributorMiragaya, Luciana Meireles-
Autor(es): dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/8923032431096718-
Autor(es): dc.contributorRabello, Tiago Braga-
Autor(es): dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/9942765523151478-
Autor(es): dc.contributorPenelas, Alice Gonçalves-
Autor(es): dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/7043233566749746-
Autor(es): dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/5417459648729636-
Autor(es): dc.creatorBarquete, Carolina Guedes-
Data de aceite: dc.date.accessioned2024-07-22T13:55:49Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2024-07-22T13:55:49Z-
Data de envio: dc.date.issued2024-07-18-
Data de envio: dc.date.issued2024-07-18-
Fonte completa do material: dc.identifierhttps://app.uff.br/riuff/handle/1/33428-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/capes/823175-
Descrição: dc.descriptionUm método de potencializar a união de cerâmicas de zircônia tetragonal policristalina estabilizada com Ítrio (Y-TZP) com um cimento resinoso é através da deposição de sílica sobre a superfície, criando a possibilidade de ligação entre essa e o agente de união silano. O objetivo do presente estudo foi avaliar o efeito da deposição de filme à base de hexametildisiloxano (HMDSO) e de diferentes tratamentos superficiais, aplicados após a deposição, na energia de superfície e na resistência de união entre um cimento resinoso autoadesivo e uma cerâmica de ZrO2 tetragonal policristalina estabilizada com Ítrio. Blocos de Lava Frame (3M) foram seccionados e sinterizados para obtenção de 200 placas, que foram aleatoriamente divididas em dois grupos: AS, superfícies sinterizadas e APA, superfícies jateadas com partículas de Al2O3 de 50 μm. A deposição do filme de HMDSO ocorreu em um reator de plasma pelo sistema PECVD durante 20 min. Os grupos AS e APA foram subdivididos em 5 grupos, de acordo com o pós tratamento: controle; ASSiHF e APASiHF, condicionamento com ácido fluorídrico (HF) por 5 segundos; ASSiAr e APASiAr, condicionamento com plasma de argônio por 30 segundos; ASSiArHF e APASiArHF, plasma de argônio por 30 segundos e condicionamento com HF. As superfícies tratadas foram caracterizadas por espectroscopia vibracional no infravermelho (FTIR) e microscopia eletrônica de varredura (MEV). A energia de superfície foi mensurada através de goniometria. Para análise da resistência de união por microcisalhamento, os grupos após o condicionamento com HF e plasma de argônio receberam uma camada de silano. As análises estatísticas foram realizadas através de análise de variância e teste Tukey HSD (α=0.05). A deposição de HMDSO tornou a superfície hidrófoba, mas os grupos SiHF e SiArHF, tanto liso e jateado, tiveram um aumento significante da energia de superfície. Os grupos ASSiHF e ASSiAr com aplicação de silano obtiveram os maiores valores de resistência de união (P < 0.05). Os grupos APA não foram estatisticamente diferentes do controle (P > 0.05). A espectroscopia FTIR mostrou picos de ligações SiH e grupamentos carboxílicos CH3, gerados pela deposição do filme. A análise através de MEV mostrou um fino filme em escala nanométrica. Pode-se concluir que a deposição de filme de HMDSO pode ser um método eficaz de deposição de sílica. Associado ao plasma de argônio e aplicação do silano, o HMDSO aumentou a energia de superfície e a resistência de união do cimento autoadesivo à cerâmica de ZrO2 tetragonal policristalina estabilizada com Ítrio.-
Descrição: dc.descriptionOne method of enhancing the bonding of yttrium-stabilized tetragonal polycrystalline zirconia ceramics (Y-TZP) with a resin cement is through the deposition of silica on the surface, creating the possibility of bonding between it and the silane bonding agent. The aim of the present study was to evaluate the effect of deposition of a film based on hexamethyldisiloxane (HMDSO) and different surface treatments, applied after deposition, on surface energy and bond strength between a self-adhesive resin cement and a ZrO2 ceramic Yttrium-stabilized polycrystalline tetragonal. Blocks of Lava Frame (3M) were sectioned and sintered to obtain 200 plates, which were randomly divided into two groups: AS, sintered surfaces and APA, sandblasted with 50 μm Al2O3 particles. The deposition of the HMDSO film occurred in a plasma reactor by the PECVD system for 20 min. The AS and APA groups were subdivided into 5 groups, according to the post-treatment: (control); ASSiHF and APASiHF, etching with hydrofluoric acid (HF) for 5 seconds; ASsiAr and APASiAr, conditioning with argon plasma for 30 seconds; ASsiArHF and APASiArHF, argon plasma for 30 seconds and conditioning with HF. The treated surfaces were characterized by vibrational infrared spectroscopy (FTIR) and scanning electron microscopy (SEM). Surface energy was measured using goniometry. For analysis of microshear bond strength, the groups after conditioning with HF and argon plasma received a layer of silane. Statistical analyzes were performed using analysis of variance and Tukey HSD test (α=0.05). The HMDSO deposition made the surface hydrophobic, but the SiHF and SiArHF groups, both smooth and etched, had a significant increase in surface energy. The ASSiHF and ASSiAr groups with silane application obtained the highest bond strength values (P < 0.05). The APA groups were not statistically different from the control (P > 0.05). FTIR spectroscopy showed peaks of SiH bonds and CH3 carboxylic groups, generated by film deposition. Analysis by SEM showed a thin film on a nanometric scale. It can be concluded that HMDSO film deposition can be an effective silica deposition method. Associated with argon plasma and silane application, HMDSO increased the surface energy and the bond strength of the selfadhesive cement to the tetragonal polycrystalline ZrO2 ceramic stabilized with Yttrium-
Descrição: dc.description40 f.-
Formato: dc.formatapplication/pdf-
Idioma: dc.languagept_BR-
Direitos: dc.rightsOpen Access-
Direitos: dc.rightsCC-BY-SA-
Palavras-chave: dc.subjectCerâmica-
Palavras-chave: dc.subjectZircônio-
Palavras-chave: dc.subjectÍtrio-
Palavras-chave: dc.subjectPlasma-
Palavras-chave: dc.subjectCimento de resina-
Palavras-chave: dc.subjectResistência-
Palavras-chave: dc.subjectCerâmica-
Palavras-chave: dc.subjectPorcelana dentária-
Palavras-chave: dc.subjectÍtrio-
Palavras-chave: dc.subjectCimentos de resina-
Palavras-chave: dc.subjectAdesividade-
Palavras-chave: dc.subjectCeramic-
Palavras-chave: dc.subjectZirconium-
Palavras-chave: dc.subjectYttrio-
Palavras-chave: dc.subjectPlasma-
Palavras-chave: dc.subjectResin cements-
Palavras-chave: dc.subjectStrenght-
Título: dc.titleEfeito da deposição de filme fino à base de sílica no comportamento adesivo de superfícies de cerâmica Y-TZP submetidas à diferentes tratamentos-
Título: dc.titleEffect of silica-based thin film deposition on the adhesive behavior of Y-TZP ceramic surfaces under different treatments-
Tipo de arquivo: dc.typeTese-
Aparece nas coleções:Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense - RiUFF

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