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Caracterização ótica in-situ de filmes finos de a-C:H depositados por plasmas.
Use este link compartilhar ou citar este material: http://educapes.capes.gov.br/handle/capes/770159
Registro completo de metadados
| Metadados | Descrição | Idioma |
|---|---|---|
| Autor(es): dc.contributor | Franceschini Filho, Dante Ferreira | - |
| Autor(es): dc.contributor | CPF:11155566422 | - |
| Autor(es): dc.contributor | http://lattes.cnpq.br/4956035681407259 | - |
| Autor(es): dc.creator | Pereira, Fabiano Pinto | - |
| Data de aceite: dc.date.accessioned | 2024-07-11T18:25:06Z | - |
| Data de disponibilização: dc.date.available | 2024-07-11T18:25:06Z | - |
| Data de envio: dc.date.issued | 2021-03-10 | - |
| Data de envio: dc.date.issued | 2012-08-29 | - |
| Data de envio: dc.date.issued | 2021-03-10 | - |
| Data de envio: dc.date.issued | 2010-10-01 | - |
| Fonte completa do material: dc.identifier | https://app.uff.br/riuff/handle/1/19626 | - |
| Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/capes/770159 | - |
| Descrição: dc.description | In this work we report the in-situ optical characterization of plasma-deposited a-C:H films, from near-normal reflectance at 633 nm wavelength. The films were deposited by radio frequency Plasma Enhances Chemical Vapor Deposition (rf-PECVD), onto Si (100) single crystalline substrates, placed on a water-cooled cathode, which was capacitively-coupled to a rf (13.56 MHz) power supply. The optical constants, and growth or erosion rates of a-C:H films were determined during deposition experiments in methane plasma, or erosion by N2−H2 mixture plasmas. It was obtained an excellent agreement between the values of the optical constants obtained during growth and erosion of the a-C:H thin films, as well as for the growth and erosion rate. This results show that the optical characterization of a-C:H thin films whose deposition cannot be followed by near normal reflectometry; like hollow-cathode PECVD, can be done by ex-situ erosion experiments. We present a framework for the characterization of plasma deposited a-C:H films from their optical constants n and k, determined at 633 nm wave- lenght. The framework is based on the determination of the volume fractions of diamond-like, polymer-like and graphite-like phases, which are extracted from the optical constants of the studied films, by using a three components effective medium theory, ellecting three standard materials for each one of this phases. The dilution effects of the precursor methane atmosphere by hydrogen gas on the optical constants of a-C:H films were studied. The films was deposited by rf-PECVD and the deposition parameters was similar to the nearfrictionless carbon films. | - |
| Descrição: dc.description | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior | - |
| Descrição: dc.description | Neste trabalho será relatada a caracterização óptica in-situ de filmes de a-C:H depositados por plasma, através da reflectância quase normal a 633 nm de comprimento de onda. Os filmes foram depositados via deposição química na fase vapor (rf-PECVD), sobre substratos de silício monocristalinos, colocados sobre um catodo refrigerado a água, o qual foi capacitivamente acoplado a uma fonte de rádio frequência (13.56 MHz). As constantes ópticas, e as taxas de deposição ou erosão dos filmes de a-C:H foram determinadas durante experimentos de deposição por plasmas de metano ou de erosão por plasmas da mistura N2 − H2. Foi obtido um excelente acordo entre os valores das constantes óticas, assim como para as taxas de deposição e erosão obtidos durante o crescimento e erosão dos filmes finos de a-C:H. Estes resultados mostram que a caracterização ótica dos filmes de a-C:H cuja deposição não pode ser acompanhada pela reflectometria de incidência quase normal; assim como no caso das deposições via PECVD por catodo oco, pode ser realizada ex-situ via experimentos de erosão. Apresentamos uma sistemática para a caracterização de filmes de a-C:H depositados por plasma através de suas constantes óticas n e k, determinados a um comprimento de onda de 633 nm. A sistemática é baseada na determinação das frações volumétricas das fases tipo diamante, tipo polímero e tipo grafite, as quais são extraídas das constantes ópticas dos filmes estudados, pelo uso de uma teoria de meio efetivo de três componentes, escolhendo três materiais para serem padrão para cada uma das fases. Foi realizado um estudo para investigar o comportamento das constantes óticas dos filmes de a-C:H obtidos através da diluição de uma atmosfera precursora de metano por hidrogênio, com parâmetros de deposição similares aos utilizados nos filmes de carbono com coeficiente de atrito ultra-baixo. | - |
| Formato: dc.format | application/pdf | - |
| Idioma: dc.language | pt_BR | - |
| Publicador: dc.publisher | Programa de Pós-graduação em Física | - |
| Publicador: dc.publisher | Física | - |
| Direitos: dc.rights | Acesso Aberto | - |
| Direitos: dc.rights | CC-BY-SA | - |
| Palavras-chave: dc.subject | Filmes de a-C:H | - |
| Palavras-chave: dc.subject | Caracterização ótica | - |
| Palavras-chave: dc.subject | Reflectometria a laser | - |
| Palavras-chave: dc.subject | Constantes ópticas | - |
| Palavras-chave: dc.subject | Deposição por plasma | - |
| Palavras-chave: dc.subject | Erosão por plasma | - |
| Palavras-chave: dc.subject | PECVD | - |
| Palavras-chave: dc.subject | CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA | - |
| Título: dc.title | Caracterização ótica in-situ de filmes finos de a-C:H depositados por plasmas. | - |
| Tipo de arquivo: dc.type | Tese | - |
| Aparece nas coleções: | Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense - RiUFF | |
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