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Metadados | Descrição | Idioma |
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Autor(es): dc.contributor | Silva, Eduardo Moreira da | - |
Autor(es): dc.contributor | http://lattes.cnpq.br/4937373289319914 | - |
Autor(es): dc.contributor | http://lattes.cnpq.br/0084980191573168 | - |
Autor(es): dc.creator | Corrêa Netto, Luciano Ribeiro | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2024-07-11T18:21:31Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2024-07-11T18:21:31Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2019-11-17 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2019-11-17 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2014 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | https://app.uff.br/riuff/handle/1/12223 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/capes/768973 | - |
Descrição: dc.description | Objetivos: O objetivo deste estudo foi avaliar a integridade marginal de restaurações confeccionadas com compósito experimental elaborado com silsesquioxano oligomérico poliédrico (POSS). Materiais e métodos: Um compósito controle (B) foi produzido com matrizes poliméricas metacrílicas UDMA/TEGDMA – (70/30% p/p) e 70% p/p de partículas de vidro de borosilicato de bário com tamanho médio de 0,7 μm. O sistema de fotoiniciação foi composto por canforoquinona e etil N, N-dimetil-4 aminobenzoato (EDMAB). Para a produção de do compósito experimental baseado no silsesquioxano oligomérico poliédrico (POSS), 25% p/p de UDMA foi substituído pelo POSS (P25). Os compósitos comerciais P90 e TPH3 (TP3) foram usados como controles positivo e negativo. A integridade marginal (%IM) foi analisada nas cavidades Classe I restauradas com os compósitos. Após 7 dias de armazenamento em água destilada à 37%, as cavidades foram imersas em solução aquosa de azul de metileno, e o % do comprimento linear da integridade marginal foi avaliada em estéreo microscópio ótico com aumento de 40X. A contração volumétrica de polimerização (%CV) e a tensão de polimerização (TP - MPa) também foram avaliadas. Os resultados foram submetidos à análise de variância e ao teste Tuckey HSD post hoc e análise de regressão linear (= 0.05). Resultados: O %CV variou de 1.4% (P90) a 4.9% (P25), enquanto TP variou de 2.3 MPa (P90) a 3.9 MPa (B). Em ambas as propriedades, o compósito P25 apresentou os piores resultados (4.9%) e (3.6 MPa). Os valores para o %IM foram os seguintes: P90˃ TP3˃ B˃ P25 (p< 0.05). A análise de regressão linear revelou forte correlação positiva entre %CV e TP (r = 0.97), enquanto que a correlação entre TP e %IM foi moderada (r = 0.76). Conclusão: A adição de 25% do POSS na matriz polimérica metacrílica não contribuiu para a integridade marginal das restaurações. P90 apresentou menores valores de contração volumétrica de polimerização e de tensão de polimerização quando comparado aos compósitos experimental e comercial à base de metacrilato | - |
Descrição: dc.description | Objectives: The purpose of this study was to evaluate the marginal integrity of restorations produced with an experimental composite based on polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS). Methods: A base composite (B) was produced with a polymeric matrix with UDMA/TEGDMA – (70/30 wt.%) and 70 wt.% of barium borosilicate glass particles (0.7μm). The photoinitiation system was composed by camphorquinone and ethyl N, N-dimethyl-4aminobenzoato (EDMAB). To produce the experimental composite based on polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS), 25 wt.% of UDMA was replaced by POSS (P25). The composites P90 and TPH3 (TP3) were used as positive and negative controls. Marginal integrity (%MI) was analyzed in bonded class I cavities bulk-restored with the composites. After 7 days of storage in distilled water at 37˚C, the cavities were immersed in a 1% aqueous solution of methylene blue and the % linear length of marginal integrity along the cavity margins was calculated under optical microscopy at 40x. Volumetric polymerization shrinkage (%VS) and shrinkage stresses (Pss - MPa) were also evaluated. The data were analyzed by one-Way ANOVA and Tukey’HSD post hoc test and linear regression analysis (α = 0.05). Results: The %VS ranged from 1.4% (P90) to 4.9% (P25), while Pss ranged from 2.3 Mpa (P90) to 3.9 MPa (B). In both properties the composite P25 presented the worst results (4.9%) and (3.6 MPa). The values for %MI were as follow: P90 > TP3 > B > P25 (p < 0.05). Linear regression analysis showed strong positive correlation between %VS and Pss (r = 0.97), whereas the correlation between Pss and %MI was found moderate (r = 0.76). Conclusions: The addition of 25 wt.% of POSS in methacrylate-based polymeric matrix did not improve the marginal integrity of restorations. Filtek P90 showed lower polymerization shrinkage and shrinkage stress when compared to experimental and commercial metacrylate-based composites | - |
Descrição: dc.description | 34f. | - |
Formato: dc.format | application/pdf | - |
Idioma: dc.language | pt_BR | - |
Direitos: dc.rights | openAccess | - |
Direitos: dc.rights | openAccess | - |
Direitos: dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/ | - |
Direitos: dc.rights | CC-BY-SA | - |
Palavras-chave: dc.subject | Compósito experimental | - |
Palavras-chave: dc.subject | POSS | - |
Palavras-chave: dc.subject | Contração de Polimerização | - |
Palavras-chave: dc.subject | Tensão de contração | - |
Palavras-chave: dc.subject | Integridade marginal | - |
Palavras-chave: dc.subject | Restauração dentária | - |
Palavras-chave: dc.subject | Compósito polimérico | - |
Palavras-chave: dc.subject | Experimental composite | - |
Palavras-chave: dc.subject | Polymerization shrinkage | - |
Palavras-chave: dc.subject | Shrinkage stress | - |
Palavras-chave: dc.subject | Marginal integrity | - |
Título: dc.title | Avaliação da integralidade marginal de restaurações produzidas com um compósito experimental com matriz polimérica modificada com silsesquioxano oligomérico poliédrico (POSS) | - |
Título: dc.title | Evaluation of the marginal integrity of restorations produced with an experimental composite based on polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) | - |
Tipo de arquivo: dc.type | Dissertação | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense - RiUFF |
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