Modificações no modelo de deposição balística para aplicação em esferas discretizadas

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Autor(es): dc.contributorReis, Fabio David Alves de Aarão-
Autor(es): dc.contributorReis, Fabio David Alves de Aarão-
Autor(es): dc.contributorChame, Anna Maria Nóbrega-
Autor(es): dc.contributorPereira, Rodrigo Miranda-
Autor(es): dc.creatorLicha, Andrés Fernando Cardozo-
Data de aceite: dc.date.accessioned2024-07-11T18:08:32Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2024-07-11T18:08:32Z-
Data de envio: dc.date.issued2021-11-11-
Data de envio: dc.date.issued2021-11-11-
Data de envio: dc.date.issued2020-
Fonte completa do material: dc.identifierhttps://app.uff.br/riuff/handle/1/23665-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/capes/764375-
Descrição: dc.descriptionO modelo de deposição balística foi proposto há mais de 60 anos para a formação de rochas sedimentares. Variações desse modelo podem ser estendidas para diversos contextos, incluindo a deposição de filmes finos. Neste trabalho, uma adaptação do modelo de deposição balística e aplicada para a formação de filmes finos de nanopartículas com forma de esferas discretizas. Foram medidas a densidade e a rugosidade dos filmes com até 5 camadas de nanopartículas, em substratos de tamanho lateral 1024. Este trabalho é o primeiro passo para modelar a fase de nanopartículas de tântalo em filmes híbridos com silício, produzidos por Haro et al.[1] para anodos de baterias a base de íons de lítio.-
Descrição: dc.descriptionConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico-
Descrição: dc.descriptionThe balistic deposition model was proposed over 60 years ago for the formation of sedimentary rocks. Variations of this model are applied in diferent fields, including thin film deposition. In this work, an extension of balistic deposition is used to model growth of thin nanoparticulate films, in which the nanoparticles have the shape of discretized spheres. Density and roughness of films with up to 5 layers of nanoparticles were measured on substrate of lateral size 1024. This work is the first step to model the tantalum nanoparticle deposition in hibrid materials containing silicon [1], which were designed for lithium-ion battery anodes.-
Formato: dc.formatapplication/pdf-
Idioma: dc.languagept_BR-
Publicador: dc.publisherUniversidade Feral Fluminense-
Publicador: dc.publisherNiterói-
Direitos: dc.rightsOpen Access-
Direitos: dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/-
Direitos: dc.rightsCC-BY-SA-
Palavras-chave: dc.subjectDeposição balística-
Palavras-chave: dc.subjectEsferas discretizadas-
Palavras-chave: dc.subjectSputtering-
Palavras-chave: dc.subjectNanopartículas-
Palavras-chave: dc.subjectMecânica Estatística-
Palavras-chave: dc.subjectDeposição de filmes finos-
Palavras-chave: dc.subjectProdução intelectual-
Palavras-chave: dc.subjectBalistic deposition-
Palavras-chave: dc.subjectDiscretized spheres-
Palavras-chave: dc.subjectSputtering-
Palavras-chave: dc.subjectNanoparticles-
Título: dc.titleModificações no modelo de deposição balística para aplicação em esferas discretizadas-
Tipo de arquivo: dc.typeTrabalho de conclusão de curso-
Aparece nas coleções:Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense - RiUFF

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