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Metadados | Descrição | Idioma |
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Autor(es): dc.contributor | Franceschini Filho, Dante Ferreira | - |
Autor(es): dc.contributor | CPF:11155566422 | - |
Autor(es): dc.contributor | http://lattes.cnpq.br/4956035681407259 | - |
Autor(es): dc.creator | Vieira, Aline de Lima | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2024-07-11T17:45:35Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2024-07-11T17:45:35Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2021-03-10 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2011-05-04 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2021-03-10 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2009-09-29 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | https://app.uff.br/riuff/handle/1/19193 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/capes/756931 | - |
Descrição: dc.description | This work has the object to study the hydrogenated amorphous carbon films a-C:H deposited by parallel plate hollow cathode plasma in silicon substrate. The results obtained were compared with hydrogenated amorphous carbon films a-C:H deposited by usual PECVD (Plasma Enhances Chemical Vapor Deposition). Stress, hardness, refraction índex, self-bias potential versus RF power, deposition rate and emission optical spectroscopy were measured. The stress increased when the films were deposited by hollow cathode, the hardness didn't have important alteration and the refraction index curve versus self-bias potential presented a way very similar the stress curve. In order to obtain a determinate self-bias potential is necessary a greater RF power when the hollow cathode is used. The H' line intensity curve versus deposition rate is linear and the deposition rate for deposition of films by hollow cathode increased when compared when usual PECVD. We believe that the obtained results occur because in deposition by hollow cathode plasma the density increases if compared with usual PECVD plasma. | - |
Descrição: dc.description | Este trabalho destina-se a estudar os filmes de carbono amorfo hidrogenado a-C:H depositados por plasma de catodo oco de placas paralelas em substratos de silício. Os resultados obtidos foram comparados com os filmes de carbono amorfo hidrogenado a-C:H depositados por PECVD usual (do inglês Plasma Enhances Chemical Vapor Deposition). Foram feitas medidas de tensão interna, dureza mecânica, índice de refração, tensão de auto-polarização em função da potência do plasma, taxa de deposição e das linhas dos espectros de emissão óptica do plasma. Os filmes depositados por catodo oco apresentaram uma maior tensão interna, a dureza mecânica não sofreu alteração considerável e a curva do índice de refração em função do potencial de auto-polarização apresentou um comportamento muito parecido com a curva da tensão interna. Para obter um determinado potencial de auto-polarização, é necessária uma potência muito maior quando é utilizado o catodo oco. A curva da intensidade da linha H' em função da taxa de deposição é linear e a taxa de deposição para os filmes depositados por catodo oco e muito maior que para PECVD usual. Acreditamos que os dados obtidos ocorrem pois nas deposições por plasma de catodo oco há uma maior densidade do que nas deposições por plasma de PECVD usual. | - |
Formato: dc.format | application/pdf | - |
Idioma: dc.language | pt_BR | - |
Publicador: dc.publisher | Programa de Pós-graduação em Física | - |
Publicador: dc.publisher | Física | - |
Direitos: dc.rights | Acesso Aberto | - |
Direitos: dc.rights | CC-BY-SA | - |
Palavras-chave: dc.subject | Filmes finos | - |
Palavras-chave: dc.subject | Carbono amorfo | - |
Palavras-chave: dc.subject | Catodo oco | - |
Palavras-chave: dc.subject | Deposição por plasma | - |
Palavras-chave: dc.subject | CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA | - |
Título: dc.title | Deposição de filmes de carbono amorfo hidrogenado por plasma de catodo oco | - |
Tipo de arquivo: dc.type | Dissertação | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense - RiUFF |
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