Controle da pressão em um sistema de nitretação por plasma

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Autor(es): dc.contributorStebel, Sergio Leandro-
Autor(es): dc.creatorBraga, Alan Danilo Martins-
Data de aceite: dc.date.accessioned2022-02-21T21:29:40Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2022-02-21T21:29:40Z-
Data de envio: dc.date.issued2020-11-19-
Data de envio: dc.date.issued2020-11-19-
Data de envio: dc.date.issued2014-11-25-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://repositorio.utfpr.edu.br/jspui/handle/1/17166-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/capes/653857-
Descrição: dc.descriptionThis work presents a solution to pressure control in a plasma nitriding system. The control is made by a valve between the chamber and a vacuum pump, the original valve was improved to become automatic, in addition, an electronic circuit was designed, the transfer function was identified and the PID controller was tuned by the CHR method. The mechanical adaptation, the electronic design of the circuit to control the position of the valve and the PID tuning is presented.-
Descrição: dc.descriptionEste trabalho apresenta uma solução para controlar a pressão em um sistema de nitretação por plasma. O controle é realizado através de uma válvula conectada entre a câmara e a bomba geradora de vácuo. A válvula manual existente na máquina foi adaptada para realizar o papel de elemento final de controle, para isso, foi empregado um motor de passo comandado por um sistema eletrônico de posicionamento. Foi empregado um controlador universal para o sistema de controle, a sintonia deste controlador foi realizada com base no método CHR. O desenvolvimento mecânico de adaptação da válvula, o desenvolvimento eletrônico do circuito posicionador, a identificação da função de transferência, a sintonia do controlador e os resultados obtidos são apresentados.-
Formato: dc.formatapplication/pdf-
Idioma: dc.languagept_BR-
Publicador: dc.publisherUniversidade Tecnológica Federal do Paraná-
Publicador: dc.publisherCuritiba-
Publicador: dc.publisherDepartamento Acadêmico de Eletrônica-
Palavras-chave: dc.subjectPlasma (Gases ionizados)-
Palavras-chave: dc.subjectPressão - Controle-
Palavras-chave: dc.subjectVálvulas-
Palavras-chave: dc.subjectPlasma (Ionized gases)-
Palavras-chave: dc.subjectPressure - Control-
Palavras-chave: dc.subjectValves-
Palavras-chave: dc.subjectAutomação Industrial-
Título: dc.titleControle da pressão em um sistema de nitretação por plasma-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
Aparece nas coleções:Repositorio Institucional da UTFPR - RIUT

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