The role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: From polycrystalline to highly oriented films

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Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (UNESP)-
Autor(es): dc.contributorBrazilian Center for Research in Energy and Materials (CNPEM)-
Autor(es): dc.contributorUniversidade de São Paulo (USP)-
Autor(es): dc.contributorUniversidade Federal da Paraíba (UFPB)-
Autor(es): dc.contributorInstituto Tecnológico de Aeronáutica-
Autor(es): dc.creatorNeto, Nilton F. Azevedo-
Autor(es): dc.creatorCalligaris, Guilherme A.-
Autor(es): dc.creatorAffonço, Lucas J.-
Autor(es): dc.creatorZanatta, Antonio R.-
Autor(es): dc.creatorSoares, Márcio M.-
Autor(es): dc.creatorda Silva, José H.D.-
Data de aceite: dc.date.accessioned2025-08-21T15:30:10Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2025-08-21T15:30:10Z-
Data de envio: dc.date.issued2025-04-29-
Data de envio: dc.date.issued2023-10-01-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2023.140040-
Fonte completa do material: dc.identifierhttps://hdl.handle.net/11449/305834-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/305834-
Descrição: dc.descriptionWe report a systematic study of the substrate's influence on the structure of Co3O4 thin films grown by direct current reactive magnetron sputtering. Three different substrates have been simultaneously loaded to the deposition chamber and held at 620 K during growth: amorphous fused silica (a-SiO2), LaAlO3 (001), and α-Al2O3 (0001). Samples were characterized using atomic force microscopy, Raman spectroscopy, and high-resolution X-ray using synchrotron radiation (HR-XRD). Raman spectra showed bands corresponding to modes of Co3O4. The θ-2θ (HR-XRD) scans confirmed only the presence of the cubic spinel Co3O4 phase with its texture reliant on the sample substrate used. Rocking curves indicate that α-Al2O3 favors (111) Co3O4 film orientation (smaller mosaic spread). High-resolution 3-D Reciprocal Space Map analysis covering both (0006) α-Al2O3 and the (222) Co3O4 reflections have shown out-of-plane strain (0.1905%) and presented an in-plane isotropic intensity distribution of the film reciprocal lattice point, indicating no preferred mosaic direction. The substrate epitaxy governs the structure and morphology of the three samples, going from a rather flat, but polycrystalline textured Co3O4 film on a-SiO2, to a flat highly oriented strained film on α-Al2O3 and a rough highly textured and strained film on LaAlO3.-
Descrição: dc.descriptionFundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)-
Descrição: dc.descriptionMassachusetts Medical Society-
Descrição: dc.descriptionConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)-
Descrição: dc.descriptionUniversidade Estadual Paulista-
Descrição: dc.descriptionBrazilian Synchrotron Light Laboratory (LNLS) Brazilian Center for Research in Energy and Materials (CNPEM)-
Descrição: dc.descriptionUniversidade de São Paulo-
Descrição: dc.descriptionUniversidade Federal da Paraíba-
Descrição: dc.descriptionInstituto Tecnológico de Aeronáutica-
Descrição: dc.descriptionUniversidade Estadual Paulista-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: #2017/18916-2 #2020/12356-8-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: #2023/02268-2-
Descrição: dc.descriptionMassachusetts Medical Society: #PVA13625-2020-
Descrição: dc.descriptionCNPq: 304569/2021-6-
Idioma: dc.languageen-
Relação: dc.relationThin Solid Films-
???dc.source???: dc.sourceScopus-
Palavras-chave: dc.subjectCobalt oxide-
Palavras-chave: dc.subjectCrystal morphology-
Palavras-chave: dc.subjectHigh resolution X-ray diffraction-
Palavras-chave: dc.subjectReactive magnetron sputtering-
Palavras-chave: dc.subjectSpinel-
Título: dc.titleThe role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: From polycrystalline to highly oriented films-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
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