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Metadados | Descrição | Idioma |
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Autor(es): dc.contributor | Universidade Estadual Paulista Julio de Mesquita Filho (UNESP) | - |
Autor(es): dc.creator | Silva, Jose Humberto Dias da | - |
Autor(es): dc.creator | Escaliante, Lucas Caniati | - |
Autor(es): dc.creator | Pereira, André Luis de Jesus | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2025-08-21T17:02:54Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2025-08-21T17:02:54Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2023-07-03 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2023-07-03 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2021-12-01 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2023-06-13 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | https://busca.inpi.gov.br/pePI/servlet/ImagemDocumentoPdfController?CodDiretoria=200&NumeroID=05409aa9b80ccdf97f31d81768f9c3c84b1ac344dcc08b3aa83b8633c6bc88dd&certificado=undefined&numeroProcesso=&ipasDoc=undefined&codPedido=1637816 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://hdl.handle.net/11449/244336 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/11449/244336 | - |
Descrição: dc.description | BR 10 2021 024344 9 | - |
Descrição: dc.description | O presente pedido de patente de invenção trata-se de um processo de interrupção do fluxo do gás reativo que alimenta a câmara de deposição do sputtering durante o período de deposição dos filmes finos, a fim de se modificar propriedades físicas, morfológicas e estruturais dos materiais depositados. O presente processo pode ser utilizado em escalas laboratoriais, comerciais ou industriais. | - |
Formato: dc.format | application/pdf | - |
Idioma: dc.language | pt_BR | - |
Direitos: dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | - |
Título: dc.title | Processo de interrupção do fluxo do gás reativo durante deposições feitas por sputtering | - |
Tipo de arquivo: dc.type | texto | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional - Unesp |
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