Caracterização estrutural de filmes de óxidos de titânio e zinco visando aplicações em células fotovoltaicas de última geração

Registro completo de metadados
MetadadosDescriçãoIdioma
Autor(es): dc.contributorSilva, José Humberto Dias da-
Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (UNESP)-
Autor(es): dc.creatorGasparoto Junior, Edmar José-
Data de aceite: dc.date.accessioned2025-08-21T19:46:56Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2025-08-21T19:46:56Z-
Data de envio: dc.date.issued2023-02-27-
Data de envio: dc.date.issued2023-02-27-
Data de envio: dc.date.issued2023-02-15-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/239739-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/239739-
Descrição: dc.descriptionA proposta deste trabalho de conclusão de curso é realizar a caracterização estrutural de filmes finos de óxidos de titânio e zinco, utilizando o método de difração de raio-X (DRX) e analisar os resultados obtidos através dos difratogramas. Os resultados desejados para este trabalho analisando os difratogramas são, o tamanho médio do cristalito através da equação de scherrer, e a posição 2θ dos picos encontrados, podendo assim serem sobrepostos e comparados com outros difratogramas bem definidos encontrados na literatura. Os filmes finos de óxidos de metais de transição caracterizados foram crescidos través do método de sputtering. E o intuito deste trabalho é comprovar que os filmes finos depositados poderão ser aplicados em células fotovoltaicas de última geração-
Descrição: dc.descriptionThe purpose of this course conclusion work is to carry out the structural characterization of thin films of titanium and zinc oxides, using the X analyze the results obtained through diffractograms. The desired results for tray diffraction method (XRD) and to his work analyzing the diffractograms are, the average crystallite size through the Scherrer equation, and the 2θ position of the peaks found, thus being able to be superimposed and compared with other well literature. Tdefined diffractograms found in the he characterized thin films of transition metal oxides were grown using the sputtering method. And the purpose of this work is to prove that the deposited thin films can be applied in stateoftheart photovoltaic cells-
Formato: dc.formatapplication/pdf-
Idioma: dc.languagept_BR-
Publicador: dc.publisherUniversidade Estadual Paulista (UNESP)-
Direitos: dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess-
Palavras-chave: dc.subjectDifração de Raios-X-
Palavras-chave: dc.subjectCélulas fotovoltaicas-
Palavras-chave: dc.subjectSputtering-
Palavras-chave: dc.subjectXRay Diffraction-
Palavras-chave: dc.subjectPhotovoltaic cells-
Título: dc.titleCaracterização estrutural de filmes de óxidos de titânio e zinco visando aplicações em células fotovoltaicas de última geração-
Título: dc.titleStructural characterization of titanium and zinc oxide films aiming applications in state-of-the-art photovoltaic cells-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
Aparece nas coleções:Repositório Institucional - Unesp

Não existem arquivos associados a este item.