Structural and optical properties o plasma-deposited a-C:H:Si:O:N films

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MetadadosDescriçãoIdioma
Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (UNESP)-
Autor(es): dc.creatorLopes, Juliana Feletto Silveira Costa-
Autor(es): dc.creatorTardelli, Jean-
Autor(es): dc.creatorRangel, Elidiane Cipriano-
Autor(es): dc.creatorDurrant, Steven Frederick-
Data de aceite: dc.date.accessioned2025-08-21T18:20:21Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2025-08-21T18:20:21Z-
Data de envio: dc.date.issued2022-05-01-
Data de envio: dc.date.issued2022-05-01-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-31-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.1590/0104-1428.210043-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/234075-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/234075-
Descrição: dc.descriptionThin a-C:H:Si:O:N films were deposited from plasmas fed hexamethyldisiloxane, oxygen and nitrogen, and characterized as a function of the partial pressure of oxygen in the feed, Rox. Deposition rates varied from 10 to 27 nm min-1. Surface roughness was independent of Rox, being around 10 nm. The films contain C=C and C=O, and also Si-C and Si-O-Si groups. Lower [C] and [N] but greater [O] and [Si] were measured in the films as Rox was increased. Refractive indices of ~ 1.5 and optical energy gaps which fell from ~ 3.3 to ~2.3 eV were observed with increasing Rox. The Urbach energy fell with increasing optical gap, which is characteristic of amorphous materials. Such materials have potential as transparent barrier coatings.-
Descrição: dc.descriptionCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)-
Descrição: dc.descriptionConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)-
Descrição: dc.descriptionFundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)-
Descrição: dc.descriptionLaboratório de Plasmas Tecnológicos Instituto de Ciência e Tecnologia de Sorocaba Universidade Estadual Paulista - UNESP, SP-
Descrição: dc.descriptionLaboratório de Plasmas Tecnológicos Instituto de Ciência e Tecnologia de Sorocaba Universidade Estadual Paulista - UNESP, SP-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 2017/15853-0-
Idioma: dc.languageen-
Relação: dc.relationPolimeros-
???dc.source???: dc.sourceScopus-
Palavras-chave: dc.subjectOptical band gap-
Palavras-chave: dc.subjectPlasma enhanced chemical vapor deposition-
Palavras-chave: dc.subjectUrbach energy-
Título: dc.titleStructural and optical properties o plasma-deposited a-C:H:Si:O:N films-
Tipo de arquivo: dc.typeaula digital-
Aparece nas coleções:Repositório Institucional - Unesp

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