Plasma deposition of amorphous carbon films from CH4 atmospheres highly diluted in Ar

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MetadadosDescriçãoIdioma
Autor(es): dc.contributorPontificia Universidade Católica Do Rio De Janeiro-
Autor(es): dc.contributorFaculdade De Engenharia De Guaratinguetá-
Autor(es): dc.contributorUniversidade de São Paulo (USP)-
Autor(es): dc.creatorJacobsohn, L. G.-
Autor(es): dc.creatorCapote, G.-
Autor(es): dc.creatorCruz, N. C.-
Autor(es): dc.creatorZanatta, A. R.-
Autor(es): dc.creatorFreire, Jr.-
Data de aceite: dc.date.accessioned2025-08-21T17:12:33Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2025-08-21T17:12:33Z-
Data de envio: dc.date.issued2022-04-29-
Data de envio: dc.date.issued2022-04-29-
Data de envio: dc.date.issued2002-11-01-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.1016/S0040-6090(02)00756-3-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/230926-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/230926-
Descrição: dc.descriptionThe deposition, structure and mechanical properties of hydrogenated amorphous carbon films grown in highly Ar-diluted CH4 atmospheres were investigated for a total pressure of 13 Pa. Films were investigated as a function of the self-bias voltage between -50 and -500 V for two extreme CH4 partial pressures, 2 and 100%. For the self-bias voltage that optimizes the diamond-like properties of the films, -350 V, we carried out an investigation as a function of the Ar partial pressure, which ranged from 0 to 99%. The deposition rate and the hydrogen content decreased with progressive Ar dilution. The density and the compressive internal stress are nearly constant. The hardness decreased for Ar-rich precursor atmospheres. The surface roughness was independent of the CH4 partial pressure. © 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved.-
Descrição: dc.descriptionDepartamento De Física Pontificia Universidade Católica Do Rio De Janeiro, R. Marques de Sao Vicente, 225-Gavea, 22452-970 Rio de Janeiro, RJ-
Descrição: dc.descriptionDepartamento De Física E Química Faculdade De Engenharia De Guaratinguetá, 12516-410 Guaratingueta, SP-
Descrição: dc.descriptionInstituto De Física De São Carlos Universidade De São Paulo, Caixa Postal 369, 13560-250 Sao Carlos, SP-
Formato: dc.format46-53-
Idioma: dc.languageen-
Relação: dc.relationThin Solid Films-
???dc.source???: dc.sourceScopus-
Palavras-chave: dc.subjectAmorphous hydrogenated carbon-
Palavras-chave: dc.subjectMethane-
Palavras-chave: dc.subjectNoble gases-
Palavras-chave: dc.subjectPlasma enhanced CVD-
Título: dc.titlePlasma deposition of amorphous carbon films from CH4 atmospheres highly diluted in Ar-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
Aparece nas coleções:Repositório Institucional - Unesp

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