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Metadados | Descrição | Idioma |
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Autor(es): dc.contributor | Laboratório de Plasmas e Applicações LPA | - |
Autor(es): dc.contributor | Universidade de São Paulo (USP) | - |
Autor(es): dc.contributor | Instituto de Química | - |
Autor(es): dc.creator | Da Cruz, Nilson C. | - |
Autor(es): dc.creator | Rangel, Elidiane C. | - |
Autor(es): dc.creator | Tabacknics, Manfredo H. | - |
Autor(es): dc.creator | Trasferetti, Benedito C. | - |
Autor(es): dc.creator | Davanzo, Celso U. | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2022-08-04T22:01:10Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2022-08-04T22:01:10Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2022-04-28 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2022-04-28 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2001-04-01 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://dx.doi.org/10.1016/S0168-583X(00)00552-8 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://hdl.handle.net/11449/219252 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/11449/219252 | - |
Descrição: dc.description | In this work we discuss the effect of ion bombardment on the structural, optical and electrical properties of TiOx-like films deposited by a novel ion-assisted plasma enhanced chemical vapor deposition technique. In such a technique an electrical biased substrate is positioned in a region of low ion density, outside the gap between the electrodes used to generate the discharge. Films were deposited in different conditions of substrate bias, Vb, and their chemical structure and composition were analyzed by infrared reflectance absorbance (IRRAS) and Rutherford backscattering spectroscopies (RBSs), respectively. The optical constants of the films were evaluated by ultraviolet-visible (UV-Vis) spectroscopy. Furthermore, the two-probe method was employed to determine electrical resistivity. The results indicate that film properties are strongly influenced by Vb, that is, by the kind and the energy of the charged species bombarding the growing film. © 2001 Elsevier Science B.V. | - |
Descrição: dc.description | Faculdade de Engenharia de Guaratinguetá Laboratório de Plasmas e Applicações LPA, 12516-410 Guaratinguetá, SP | - |
Descrição: dc.description | IFUSP, São Paulo, SP | - |
Descrição: dc.description | Instituto de Química | - |
Formato: dc.format | 721-725 | - |
Idioma: dc.language | en | - |
Relação: dc.relation | Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms | - |
???dc.source???: dc.source | Scopus | - |
Palavras-chave: dc.subject | Ion bombardment | - |
Palavras-chave: dc.subject | PECVD | - |
Palavras-chave: dc.subject | Thin film | - |
Palavras-chave: dc.subject | TiOx | - |
Título: dc.title | The effect of ion bombardment on the properties of TiOx films deposited by a modified ion-assisted PECVD technique | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional - Unesp |
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