Atenção: Todas as denúncias são sigilosas e sua identidade será preservada.
Os campos nome e e-mail são de preenchimento opcional
Metadados | Descrição | Idioma |
---|---|---|
Autor(es): dc.contributor | Universidade Estadual Paulista (Unesp) | - |
Autor(es): dc.contributor | Universidade de São Paulo (USP) | - |
Autor(es): dc.contributor | Imec | - |
Autor(es): dc.creator | Agopian, P. G.D. [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Carmo, G. J. [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Martino, J. A. | - |
Autor(es): dc.creator | Simoen, E. | - |
Autor(es): dc.creator | Peralagu, U. | - |
Autor(es): dc.creator | Parvais, B. | - |
Autor(es): dc.creator | Waldron, N. | - |
Autor(es): dc.creator | Collaert, N. | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2022-02-22T00:47:09Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2022-02-22T00:47:09Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2021-06-25 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2021-06-25 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2021-10-31 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2021.108091 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://hdl.handle.net/11449/206462 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/11449/206462 | - |
Descrição: dc.description | In this work, the DC behavior of AlGaN/GaN Metal-Insulator-Semiconductor high electron mobility transistors (MO(I)SHEMTs) with two different gate dielectrics (Al2O3 and Si3N4) is analyzed through the experimental comparison of their basic and analog parameters. The transistors with Si3N4 insulator are more closely related to the normally-off devices (less negative threshold voltage) and less affected by the short channel effects (better DIBL behavior). Although the devices with Si3N4 layer presented a double conduction, that results in anomalous transconductance behavior, it is more suitable for analog applications since the Al2O3 devices suffer large self-heating. The very high gate leakage of Si3N4 MISHEMT degrades the subthreshold regime, which decreases the transistor efficiency at weak inversion. On the other hand, the devices with Si3N4 insulator present relatively large Early voltage and consequently high intrinsic voltage gain in strong inversion, reaching 84 V/V (38.5 dB). Even at high temperatures the intrinsic voltage gain is practically the same, degrading only 1.5 dB from 25 °C to 150 °C for a long channel device. | - |
Descrição: dc.description | UNESP Sao Paulo State University | - |
Descrição: dc.description | LSI/PSI/USP University of Sao Paulo | - |
Descrição: dc.description | Imec, Kapeldreef 75 | - |
Descrição: dc.description | UNESP Sao Paulo State University | - |
Idioma: dc.language | en | - |
Relação: dc.relation | Solid-State Electronics | - |
???dc.source???: dc.source | Scopus | - |
Palavras-chave: dc.subject | Gate dielectric | - |
Palavras-chave: dc.subject | High temperature | - |
Palavras-chave: dc.subject | Intrinsic voltage gain | - |
Palavras-chave: dc.subject | MOSHEMT | - |
Título: dc.title | Gate dielectric material influence on DC behavior of MO(I)SHEMT devices operating up to 150 °C | - |
Tipo de arquivo: dc.type | livro digital | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional - Unesp |
O Portal eduCAPES é oferecido ao usuário, condicionado à aceitação dos termos, condições e avisos contidos aqui e sem modificações. A CAPES poderá modificar o conteúdo ou formato deste site ou acabar com a sua operação ou suas ferramentas a seu critério único e sem aviso prévio. Ao acessar este portal, você, usuário pessoa física ou jurídica, se declara compreender e aceitar as condições aqui estabelecidas, da seguinte forma: