Niobium oxide films deposited by reactive sputtering: Effect of oxygen flow rate

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Autor(es): dc.contributorUniversidade Federal de São Carlos (UFSCar)-
Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (Unesp)-
Autor(es): dc.creatorFernandes, Silvia L.-
Autor(es): dc.creatorAffonço, Lucas J. [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorJunior, Roberto A. R. [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorda Silva, José H. D. [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorLongo, Elson-
Autor(es): dc.creatorGraeff, Carlos F. de O. [UNESP]-
Data de aceite: dc.date.accessioned2022-02-22T00:32:55Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2022-02-22T00:32:55Z-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-11-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-11-
Data de envio: dc.date.issued2019-01-01-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.3791/59929-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/201216-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/201216-
Descrição: dc.descriptionReactive sputtering is a versatile technique used to form compact films with excellent homogeneity. In addition, it allows easy control over deposition parameters such as gas flow rate that results in changes on composition and thus in the film required properties. In this report, reactive sputtering is used to deposit niobium oxide films. A niobium target is used as metal source and different oxygen flow rates to deposit niobium oxide films. The oxygen flow rate was changed from 3 to 10 sccm. The films deposited under low oxygen flow rates show higher electrical conductivity and provide better perovskite solar cells when used as electron transport layer.-
Descrição: dc.descriptionFundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)-
Descrição: dc.descriptionChemistry Department Federal University of São Carlos (UFSCAR)-
Descrição: dc.descriptionPhysics Department School of Sciences São Paulo State University (UNESP)-
Descrição: dc.descriptionPhysics Department School of Sciences São Paulo State University (UNESP)-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 2013/07296-2-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 2013/09963-6-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 2017/11072-3-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 2017/18916-2-
Idioma: dc.languageen-
Relação: dc.relationJournal of Visualized Experiments-
???dc.source???: dc.sourceScopus-
Palavras-chave: dc.subjectChemistry-
Palavras-chave: dc.subjectCompact films-
Palavras-chave: dc.subjectConductivity-
Palavras-chave: dc.subjectElectron transport layer-
Palavras-chave: dc.subjectIssue 151-
Palavras-chave: dc.subjectNiobium oxide film-
Palavras-chave: dc.subjectPerovskite solar cell-
Palavras-chave: dc.subjectReactive sputtering-
Título: dc.titleNiobium oxide films deposited by reactive sputtering: Effect of oxygen flow rate-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
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