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Metadados | Descrição | Idioma |
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Autor(es): dc.contributor | Universidade Estadual Paulista (Unesp) | - |
Autor(es): dc.contributor | School of Engineering-PPGEMN | - |
Autor(es): dc.contributor | Technical Institute Aerospace (ITA) | - |
Autor(es): dc.contributor | UnP - Laureate University | - |
Autor(es): dc.creator | Silva, Alecsandro de Moura [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Figueiredo, Viviane Maria Gonçalves de [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Massi, Marcos | - |
Autor(es): dc.creator | Prado, Renata Falchete do [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Silva Sobrinho, Argemiro Soares da | - |
Autor(es): dc.creator | Queiroz, José Reinaldo Cavalcanti de | - |
Autor(es): dc.creator | Nogueira Junior, Lafayette [UNESP] | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2022-02-22T00:28:12Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2022-02-22T00:28:12Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2020-12-11 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2020-12-11 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2019-10-31 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://dx.doi.org/10.1111/jicd.12477 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://hdl.handle.net/11449/199740 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/11449/199740 | - |
Descrição: dc.description | AIM: To analyze the effect of a silicon (Si)-based film deposited on yttria-stabilized tetragonal zirconia polycrystal (Y-TZP) on the topography and bond strength of resin cement. METHODS: Specimens of zirconia were obtained and randomly divided into 4 groups, according to surface treatment: polished group (PG) zirconia; sandblasted group (SG) zirconia with aluminum oxide (100 µm); after polished, zirconia was coated with Si-based film group (SiFG); and after sandblasted, zirconia was coated with Si-based film group (SiFSG). The Si-based films were obtained through plasma-enhanced chemical vapor deposition. Surface roughness and contact angle analysis were performed. Resin cement cylinders were built up on the treated surface of blocks, after applying Monobond-S. The specimens were submitted to thermocycling aging and shear bond strength testing. The Kruskal-Wallis and Mann-Whitney U-tests were performed. RESULTS: There were significant differences between the surface treatments for each roughness parameter measured. Si-based film increased roughness and decreased the contact angle. Si-based film groups also demonstrated significantly lower bond strength values. CONCLUSION: Si-based film produced using plasma deposition provided lower bond strength to resin cement compared with conventional treatment; however, the film deposition reduced the contact angle and improved roughness, favorable properties in the long way to prepare an optimum material. | - |
Descrição: dc.description | Department of Dental Materials and Prosthodontics Institute of Science and Technology of Sao Jose dos Campos São Paulo State University (UNESP) | - |
Descrição: dc.description | Mackenzie Presbyterian University School of Engineering-PPGEMN | - |
Descrição: dc.description | Department of Physic Technical Institute Aerospace (ITA) | - |
Descrição: dc.description | Department of Biotechnology UnP - Laureate University | - |
Descrição: dc.description | Department of Dental Materials and Prosthodontics Institute of Science and Technology of Sao Jose dos Campos São Paulo State University (UNESP) | - |
Formato: dc.format | e12477 | - |
Idioma: dc.language | en | - |
Relação: dc.relation | Journal of investigative and clinical dentistry | - |
???dc.source???: dc.source | Scopus | - |
Palavras-chave: dc.subject | adhesion | - |
Palavras-chave: dc.subject | plasma-enhanced chemical vapor deposition | - |
Palavras-chave: dc.subject | roughness | - |
Palavras-chave: dc.subject | shear bond strength | - |
Palavras-chave: dc.subject | zirconia | - |
Título: dc.title | Silicon-based film on the yttria-stabilized tetragonal zirconia polycrystal: Surface and shear bond strength analysis | - |
Tipo de arquivo: dc.type | livro digital | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional - Unesp |
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