Analysis of the negative-bias-temperature-instability on omega-gate silicon nanowire soi mosfets with different dimensions

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MetadadosDescriçãoIdioma
Autor(es): dc.contributorUniversidade de São Paulo (USP)-
Autor(es): dc.contributorRio Grande do Sul Federal University-
Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (Unesp)-
Autor(es): dc.creatorSilva, Vanessa C. P.-
Autor(es): dc.creatorWirth, Gilson I.-
Autor(es): dc.creatorMartino, João A.-
Autor(es): dc.creatorAgopian, Paula G. D. [UNESP]-
Data de aceite: dc.date.accessioned2022-02-22T00:27:11Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2022-02-22T00:27:11Z-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-11-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-11-
Data de envio: dc.date.issued2019-12-31-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.29292/jics.v15i2.126-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/199368-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/199368-
Descrição: dc.descriptionThis work presents an experimental analysis of the Negative-Bias-Temperature-Instability (NBTI) on omegagate nanowire (NW) pMOSFETS transistors and the trends analysis from simulations, focusing on the influence of channel length and width, since it is an important reliability parameter for advanced technology nodes. 3D-numerical simulations were performed as guideline for a trend analysis. The results show a high NBTI in NW (ΔVT≈200-300mV – for WNW=10nm) due to a high defect density and high gate oxide electric field accelerating the NBTI effect providing a higher degradation.-
Descrição: dc.descriptionConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)-
Descrição: dc.descriptionLSI/PSI/USP University of Sao Paulo-
Descrição: dc.descriptionUFRGS Rio Grande do Sul Federal University-
Descrição: dc.descriptionUNESP Sao Paulo State University-
Descrição: dc.descriptionUNESP Sao Paulo State University-
Formato: dc.format1-5-
Idioma: dc.languageen-
Relação: dc.relationJournal of Integrated Circuits and Systems-
???dc.source???: dc.sourceScopus-
Palavras-chave: dc.subjectMOSFET-
Palavras-chave: dc.subjectNBTI-
Palavras-chave: dc.subjectNW-
Palavras-chave: dc.subjectSOI-
Título: dc.titleAnalysis of the negative-bias-temperature-instability on omega-gate silicon nanowire soi mosfets with different dimensions-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
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