Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition of Carvacrol Thin Films on Stainless Steel to Reduce the Formation ofE. ColiandS. AureusBiofilms

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Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (Unesp)-
Autor(es): dc.contributorBahir Dar Univ-
Autor(es): dc.contributorUniversidade Federal de São Carlos (UFSCar)-
Autor(es): dc.creatorGetnet, Tsegaye Gashaw [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorSilva, Gabriela F. da-
Autor(es): dc.creatorDuarte, Iolanda S.-
Autor(es): dc.creatorKayama, Milton E. [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorRangel, Elidiane C. [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorCruz, Nilson C. [UNESP]-
Data de aceite: dc.date.accessioned2022-02-22T00:22:23Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2022-02-22T00:22:23Z-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-10-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-10-
Data de envio: dc.date.issued2020-07-01-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.3390/ma13143166-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/197882-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/197882-
Descrição: dc.descriptionIn this paper, we have investigated the deposition of thin films from natural carvacrol extract using dielectric barrier discharge (DBD) plasma polymerization, aiming at the inhibition of bacteria adhesion and proliferation. The films deposited on stainless steel samples have been characterized by scanning electron microscopy, infrared reflectance-absorbance spectroscopy, profilometry, and contact angle measurements. Films with thicknesses ranging from 1.5 mu m to 3.5 mu m presented a chemical structure similar to that of carvacrol. While the formation of biofilm was observed on untreated samples, the coating completely inhibited the adhesion ofE. coliand reduced the adhesion ofS. aureusbiofilm in more than 90%.-
Descrição: dc.descriptionConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)-
Descrição: dc.descriptionFundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Univ, Lab Technol Plasmas, BR-18087180 Sorocaba, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionBahir Dar Univ, Dept Chem, Bahir Dar 79, Ethiopia-
Descrição: dc.descriptionUniv Fed Sao Carlos, Lab Environm Microbiol, BR-18052780 Sorocaba, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Univ, Lab Plasmas & Applicat, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Univ, Lab Technol Plasmas, BR-18087180 Sorocaba, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Univ, Lab Plasmas & Applicat, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 190896/2015-9-
Descrição: dc.descriptionFAPESP: 302992/2017-0-
Formato: dc.format11-
Idioma: dc.languageen-
Publicador: dc.publisherMdpi-
Relação: dc.relationMaterials-
???dc.source???: dc.sourceWeb of Science-
Palavras-chave: dc.subjectdielectric barrier discharge-
Palavras-chave: dc.subjectcarvacrol plasma polymerization-
Palavras-chave: dc.subjectbiofilm inhibition-
Título: dc.titleAtmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition of Carvacrol Thin Films on Stainless Steel to Reduce the Formation ofE. ColiandS. AureusBiofilms-
Tipo de arquivo: dc.typelivro digital-
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