Analysis and measurement of the non-linear refractive index of SiOxNy using pedestal waveguides

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Autor(es): dc.contributorUniversidade de São Paulo (USP)-
Autor(es): dc.contributorUniversidade Estadual Paulista (Unesp)-
Autor(es): dc.contributorIPEN CNEN SP-
Autor(es): dc.contributorSao Paulo State Technol Coll FATEC-
Autor(es): dc.creatorSierra, Julian H.-
Autor(es): dc.creatorCarvalho, Daniel O. [UNESP]-
Autor(es): dc.creatorSamad, Ricardo E.-
Autor(es): dc.creatorRangel, Ricardo C.-
Autor(es): dc.creatorAlayo, Marco-
Autor(es): dc.creatorIEEE-
Data de aceite: dc.date.accessioned2022-02-22T00:05:41Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2022-02-22T00:05:41Z-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-09-
Data de envio: dc.date.issued2020-12-09-
Data de envio: dc.date.issued2019-01-01-
Fonte completa do material: dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11449/195391-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/11449/195391-
Descrição: dc.descriptionIn this work, the non-linear refractive index (n(2)) of silicon oxynitride (SiOxNy) is determined, obtaining a value for this material of n(2) = 2.11x10(-19) m(2)/W. The results demonstrate that this material has interesting properties for the development of non-linear optical devices. The paper presents in detail the waveguide fabrication process using the pedestal technique, which allows using different materials since it does not require etching to define the sidewalls of the waveguides. We show the results of the measurement of the n(2) employing the non-linear optical phenomena of Self-Phase Modulation (SPM).-
Descrição: dc.descriptionFundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)-
Descrição: dc.descriptionConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)-
Descrição: dc.descriptionCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)-
Descrição: dc.descriptionUniv Sao Paulo, Polytech Sch, Sao Paulo, Brazil-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Univ UNESP, Telecommun Dept, Sao Joao De Boa Vista, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionIPEN CNEN SP, Ctr Lasers & Applicat, Sao Paulo, Brazil-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Technol Coll FATEC, Sao Paulo, Brazil-
Descrição: dc.descriptionSao Paulo State Univ UNESP, Telecommun Dept, Sao Joao De Boa Vista, SP, Brazil-
Descrição: dc.descriptionCNPq: 432088/2018-0-
Descrição: dc.descriptionCNPq: 305447/2017-3-
Descrição: dc.descriptionCAPES: 88882.333330/2019-01-
Formato: dc.format5-
Idioma: dc.languageen-
Publicador: dc.publisherIeee-
Relação: dc.relation2019 34th Symposium On Microelectronics Technology And Devices (sbmicro 2019)-
???dc.source???: dc.sourceWeb of Science-
Palavras-chave: dc.subjectoptical devices-
Palavras-chave: dc.subjectnon-linear photonics-
Palavras-chave: dc.subjectsilicon oxynitride-
Palavras-chave: dc.subjectself-phase modulation-
Palavras-chave: dc.subjectnon-linear refractive index-
Palavras-chave: dc.subjectintegrated photonics-
Palavras-chave: dc.subjectmicroelectronics-
Título: dc.titleAnalysis and measurement of the non-linear refractive index of SiOxNy using pedestal waveguides-
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