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Metadados | Descrição | Idioma |
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Autor(es): dc.contributor | Technol Fac Pindamonhangaba FATEC | - |
Autor(es): dc.contributor | Universidade Estadual Paulista (Unesp) | - |
Autor(es): dc.contributor | Hungarian Acad Sci | - |
Autor(es): dc.contributor | Natl Inst Space Res INPE | - |
Autor(es): dc.creator | Silva, L. L. G. | - |
Autor(es): dc.creator | Conceicao, D. A. S. [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Oishi, S. S. [UNESP] | - |
Autor(es): dc.creator | Toth, A. | - |
Autor(es): dc.creator | Ueda, M. | - |
Autor(es): dc.creator | VanDeSanden, MCM | - |
Autor(es): dc.creator | Dimitrova, M. | - |
Autor(es): dc.creator | Ghelev, C. | - |
Data de aceite: dc.date.accessioned | 2022-02-22T00:03:44Z | - |
Data de disponibilização: dc.date.available | 2022-02-22T00:03:44Z | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2020-12-09 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2020-12-09 | - |
Data de envio: dc.date.issued | 2012-01-01 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/356/1/012034 | - |
Fonte completa do material: dc.identifier | http://hdl.handle.net/11449/194745 | - |
Fonte: dc.identifier.uri | http://educapes.capes.gov.br/handle/11449/194745 | - |
Descrição: dc.description | RVC samples were treated by nitrogen plasma immersion ion implantation (N-PIII) for electrodes production. High-voltage pulses with amplitudes of -3.0 kV or - 10.0 kV were applied to the RVC samples while the treatment time was 10, 20 and 30 min. The samples were characterized by scanning electron microscopy (SEM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and electrochemical measurements. The SEM images present an apparent enhancement of the surface roughness after the treatment probably due to the surface sputtering during the PIII process. This observation is in agreement with the specific electrochemical surface area (SESA) of RVC electrodes. An increase was observed of the SESA values for the PIII-treated samples compared to the untreated specimen. Some oxygen and nitrogen containing groups were introduced on the RVC surface after the PIII treatment. Both plasma-induced process: the surface roughening and the introduction of the polar species on the RVC surface are beneficial for the RVC electrodes application. | - |
Descrição: dc.description | Technol Fac Pindamonhangaba FATEC, Vereador Abel Fabricio Dias Rd 4010, BR-12455010 Pindamonhangaba, SP, Brazil | - |
Descrição: dc.description | State Univ Sao Paulo UNESP, Engn Fac FEG, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil | - |
Descrição: dc.description | Hungarian Acad Sci, Inst Mat & Environm Chem, Chem Res Ctr, Budapest, Hungary | - |
Descrição: dc.description | Natl Inst Space Res INPE, Associated Plasma Lab, BR-12227010 Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil | - |
Descrição: dc.description | State Univ Sao Paulo UNESP, Engn Fac FEG, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil | - |
Formato: dc.format | 4 | - |
Idioma: dc.language | en | - |
Publicador: dc.publisher | Iop Publishing Ltd | - |
Relação: dc.relation | 17th International Summer School On Vacuum, Electron, And Ion Technologies (veit 2011) | - |
???dc.source???: dc.source | Web of Science | - |
Título: dc.title | Study of reticulated vitreous carbon surface treated by plasma immersion ion implantation for electrodes production | - |
Aparece nas coleções: | Repositório Institucional - Unesp |
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