HIDRÓXIDO DE AMONIO COMO PRECURSOR DE NITRÓGENO PARA EL CRECIMIENTO DE NITRURO DE GALIO POR EL MÉTODO DE CRECIMIENTO POR CAPAS ATÓMICAS (Atena Editora)

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MetadadosDescriçãoIdioma
Autor(es): dc.contributor.authorMORAN, ULISES ZAVALA-
Autor(es): dc.contributor.authorGALLARDO, JORGE ALBERTO LÓPEZ-
Autor(es): dc.contributor.authorBORBOLLA, MIGUEL ANGEL VIDAL-
Autor(es): dc.contributor.authorLUNA, EDGAR LÓPEZ-
Data de aceite: dc.date.accessioned2023-05-05T15:22:12Z-
Data de disponibilização: dc.date.available2023-05-05T15:22:12Z-
Data de envio: dc.date.issued2023-04-10-
Fonte: dc.identifier.urihttp://educapes.capes.gov.br/handle/capes/727960-
Resumo: dc.description.abstractSe llevo a cabo el crecimiento de películas delgadas de nitruro de galio por el método de capas atómicas. El crecimiento se realizó sobre substratos de silicio (100). Se utilizo hidróxido de amonio como un nuevo precursor de nitrógeno sustituyendo a los métodos tradicionales de plasma y amonio. El precursor de galio fue trimetil galio sigma-aldrich. La temperatura del substrato se fijó en 325°C de acuerdo con los resultados obtenidos para la ventana de temperaturas de crecimiento. Los resultados de espectroscopia de fotoelectrones de rayos x confirman el crecimiento de nitruro de galio. Los resultados de la microscopia electrónica de transmisión corroboran el depósito de la película y el espesor de esta. Con este trabajo se abre la alternativa para el crecimiento de materiales III-N a bajas temperaturas y con menor costo.pt_BR
Idioma: dc.language.isoenpt_BR
Palavras-chave: dc.subjectHidróxido de amoniopt_BR
Título: dc.titleHIDRÓXIDO DE AMONIO COMO PRECURSOR DE NITRÓGENO PARA EL CRECIMIENTO DE NITRURO DE GALIO POR EL MÉTODO DE CRECIMIENTO POR CAPAS ATÓMICAS (Atena Editora)pt_BR
Tipo de arquivo: dc.typelivro digitalpt_BR
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